GaAs快速退火爐知多少↟│╃↟？GaAs快速退火爐該有怎樣的配置和特點嗎↟│╃↟？

GaAs快速退火爐₪▩，GaAs快速退火爐知多少↟│╃↟？GaAs快速退火爐該有怎樣的配置和特點嗎↟│╃↟？今天瑞樂半導體科技有限公司小編為你整理分享GaAs快速退火爐₪▩，GaAs快速退火爐知多少↟│╃↟？GaAs快速退火爐該有怎樣的配置和特點嗎↟│╃↟？

　　GaAs快速退火爐使用方便₪▩，易於操作₪▩，加熱元件採用紅外燈管₪▩，加熱速度快₪▩，節省時間•▩↟▩。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程₪▩，操作方便₪▩，可快速獲得實驗結果₪▩，省去了重複的法蘭安裝過程₪▩，減少了爐管安裝造成的損壞•▩↟▩。那麼你知道它該有怎樣的配置和特點嗎↟│╃↟？

　　GaAs快速退火爐適用於CVD工藝₪▩，例如碳化矽塗層₪▩，陶瓷基板電導率測試₪▩，ZnO奈米結構的受控生長₪▩，陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結和其他實驗•▩↟▩。此CVD系統配置•·╃▩：1200度開放式真空管式爐（可選單溫度區₪▩，雙溫度區）•▩↟▩。多通道質量流量控制系統₪▩，真空系統（可以選擇中真空或高真空）•▩↟▩。

GaAs/GaN用快速退火爐

　　1•│☁│、控制電路採用模糊PID程式控制技術₪▩，具有溫度控制精度高₪▩，熱慣性低₪▩，溫度超調₪▩，效能可靠₪▩，操作簡單的特點•▩↟▩。

　　2•│☁│、氣路快速連線法蘭結構採用公司*的智慧財產權設計₪▩，提高了操作的便利性•▩↟▩。

　　3•│☁│、中真空系統具有自動控制真空度上限和下限的功能₪▩，高真空系統使用高壓耐衝擊分子泵•▩↟▩。

　　GaAs用快速退火爐易於操作₪▩，加熱元件採用紅外燈管₪▩，加熱速度快₪▩，節省時間•▩↟▩。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程₪▩，操作方便•▩↟▩。實驗結果可以很快獲得₪▩，並且省去了重複的方法₪▩，藍色的安裝過程減少了由於安裝引起的爐管損壞•▩↟▩。