快速退火爐RTP-Table-6

快速退火爐RTP-Table-6產品介紹

一▩╃↟₪₪、簡介
1.1 概要
RTP-150RL是在保護氣氛下的桌面式快速退火系統↟·☁，以紅外可見光加熱單片 Wafer或樣品↟·☁，工藝時間短↟·☁，控溫精度高↟·☁，適用最大6英寸晶片↟↟✘。相對於傳統擴散爐退火系統和其他RTP系統↟·☁，其獨特的腔體設計▩╃↟₪₪、先進的溫度控制技術和獨有的RL900軟體控制系統↟·☁，確保了極好的熱均勻性↟↟✘。
 
 
1.2 產品特點

•  紅外鹵素燈管加熱↟·☁，冷卻採用風冷

•  燈管功率PID控溫↟·☁，可精準控制溫度升溫↟·☁，保證良好的重現性與溫度均勻性

•  採用平行氣路進氣方式↟·☁，氣體的進入口設定在Wafer表面↟·☁，避免退火過程中冷點產生↟·☁，保證產品良好的溫度均勻性

•  大氣與真空處理方式均可選擇↟·☁，進氣前氣體淨化處理

•  標配兩組工藝氣體↟·☁，最多可擴充套件至6組工藝氣體

•  可測單晶片樣品的最大尺寸為6英寸（150×150mm）

•  採用爐門安全溫度開啟保護▩╃↟₪₪、溫控器開啟許可權保護以及裝置急停安全保護三重安全措施↟·☁，全方位保障儀器使用安全

 
1.3 RTP行業應用

•  氧化物▩╃↟₪₪、氮化物生長

•  矽化物合金退火

•  砷化鎵工藝

•  歐姆接觸快速合金

•  氧化迴流

•  其他快速熱處理工藝

•   離子注入啟用

行業領域↟▩▩·☁：

•   晶片製造 生物醫學 奈米技術

•   MEMS LEDs 太陽能電池

•   化合物產業 ↟▩▩·☁：GaAs↟·☁，GaN↟·☁，GaP↟·☁，

•   GaInP↟·☁，InP↟·☁，SiC

•   光電產業↟▩▩·☁：平面光波導↟·☁，鐳射↟·☁，VCSELs

 
 
 
二▩╃↟₪₪、技術規格
2.1引數

 
 
 
 快速退火爐RTP-150RL可製作的產品
 

 
 
 
 
 
  快速退火爐RTP-150RL生產線一覽
 

技術規格
2.1引數