瑞樂半導體公司快速退火爐RTP-150RL產品介紹

廣東瑞樂半導體公司快速退火爐RTP-150RL產品介紹

快速退火爐RTP-300RL產品介紹

一₪☁•₪☁、簡介
1.1 概要
RTP-300RL是在保護氣氛下的半自動立式快速退火系統╃◕，以紅外可見光加熱單片 Wafer或樣品╃◕，工藝時間短╃◕，控溫精度高╃◕，適用4-12英寸晶片✘·╃。相對於傳統擴散爐退火系統和其他RTP系統╃◕，其獨特的腔體設計₪☁•₪☁、先進的溫度控制技術和獨有的RL900軟體控制系統╃◕，確保了極好的熱均勻性✘·╃。
 
 
1.2 產品特點

•  紅外鹵素燈管加熱╃◕，冷卻採用風冷

•  燈管功率PID控溫╃◕，可精準控制溫度升溫╃◕，保證良好的重現性與溫度均勻性

•  採用平行氣路進氣方式╃◕，氣體的進入口設定在Wafer表面╃◕，避免退火過程中冷點產生╃◕，保證產品良好的溫度均勻性

•  大氣與真空處理方式均可選擇╃◕，進氣前氣體淨化處理

•  標配兩組工藝氣體╃◕，最多可擴充套件至6組工藝氣體

•  可測單晶片樣品的最大尺寸為12英寸（300×300mm）

•  採用爐門安全溫度開啟保護₪☁•₪☁、溫控器開啟許可權保護以及裝置急停安全保護三重安全措施╃◕，全方位保障儀器使用安全

 
1.3 RTP行業應用

•  氧化物₪☁•₪☁、氮化物生長

•  矽化物合金退火

•  砷化鎵工藝

•  歐姆接觸快速合金

•  氧化迴流

•  其他快速熱處理工藝

•   離子注入啟用

行業領域││₪╃▩：

•   晶片製造 生物醫學 奈米技術

•   MEMS LEDs 太陽能電池

•   化合物產業 ││₪╃▩：GaAs╃◕，GaN╃◕，GaP╃◕，

•   GaInP╃◕，InP╃◕，SiC

•   光電產業││₪╃▩：平面光波導╃◕，鐳射╃◕，VCSELs

 
 
 
二₪☁•₪☁、技術規格
2.1引數

 
 
 
 快速退火爐RTP-300RL可製作的產品
 

 
 
 
 
 
  快速退火爐RTP-300RL生產線一覽