快速退火爐（晶片熱處理裝置）廣泛應用在IC晶圓▩↟✘│、LED晶圓▩↟✘│、MEMS▩↟✘│、化合物半導體和功率器件等多種晶片產品的生產╃✘│✘₪，和歐姆接觸快速合金▩↟✘│、離子注入退火▩↟✘│、氧化物生長▩↟✘│、消除應力和緻密化等工藝當中╃✘│✘₪，透過快速熱處理以改善晶體結構和光電效能╃✘│✘₪，技術指標高▩↟✘│、工藝複雜▩↟✘│、專用性強│·↟•。
快速退火爐主要由真空腔室▩↟✘│、加熱室▩↟✘│、進氣系統▩↟✘│、真空系統▩↟✘│、溫度控制系統▩↟✘│、氣冷系統▩↟✘│、水冷系統等幾部分組成│·↟•。